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安徽網(wǎng)版光刻膠價(jià)格

來源: 發(fā)布時(shí)間:2025-05-11

光刻膠(Photoresist)是一種對光敏感的高分子材料,主要用于光刻工藝中,通過光化學(xué)反應(yīng)實(shí)現(xiàn)圖案的轉(zhuǎn)移,是半導(dǎo)體、集成電路(IC)、印刷電路板(PCB)、液晶顯示(LCD)等制造領(lǐng)域的材料之一。

光刻膠特性與組成

? 光敏性:在特定波長(如紫外光、極紫外光EUV等)照射下,會(huì)發(fā)生化學(xué)結(jié)構(gòu)變化(如交聯(lián)或分解),從而改變在顯影液中的溶解性。

? 主要成分:

? 樹脂(成膜劑):形成基礎(chǔ)膜層,決定光刻膠的機(jī)械和化學(xué)性能。

? 光敏劑:吸收光能并引發(fā)化學(xué)反應(yīng)(如光分解、光交聯(lián))。

? 溶劑:調(diào)節(jié)粘度,便于涂覆成膜。

? 添加劑:改善性能(如感光度、分辨率、對比度等)。
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吉田半導(dǎo)體 YK-300 正性光刻膠:半導(dǎo)體芯片制造的材料

YK-300 正性光刻膠以高分辨率與耐蝕刻性,成為 45nm 及以上制程的理想選擇。
YK-300 正性光刻膠分辨率達(dá) 0.35μm,線寬粗糙度(LWR)≤3nm,適用于半導(dǎo)體芯片前道工藝。其耐溶劑性與絕緣阻抗性能突出,在顯影與蝕刻過程中保持圖形穩(wěn)定性。產(chǎn)品已通過中芯國際量產(chǎn)驗(yàn)證,良率達(dá) 98% 以上,生產(chǎn)過程執(zhí)行 ISO9001 標(biāo)準(zhǔn),幫助客戶降低封裝成本 20% 以上。支持小批量試產(chǎn)與定制化需求,為國產(chǎn)芯片制造提供穩(wěn)定材料支撐。
內(nèi)蒙古負(fù)性光刻膠品牌光刻膠廠家推薦吉田半導(dǎo)體,23 年研發(fā)經(jīng)驗(yàn),全自動(dòng)化生產(chǎn)保障品質(zhì)!

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國家戰(zhàn)略支持
《國家集成電路產(chǎn)業(yè)投資基金三期規(guī)劃》將光刻膠列為重點(diǎn)投資領(lǐng)域,計(jì)劃投入超500億元支持研發(fā)。工信部對通過驗(yàn)證的企業(yè)給予稅收減免和設(shè)備采購補(bǔ)貼,單家企業(yè)比較高補(bǔ)貼可達(dá)研發(fā)投入的30%。

 地方產(chǎn)業(yè)協(xié)同
濟(jì)南設(shè)立寬禁帶半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)專項(xiàng)基金,深圳國際半導(dǎo)體光刻膠產(chǎn)業(yè)展覽會(huì)(2025年4月)吸引全球300余家企業(yè)參展,推動(dòng)技術(shù)交流。

 資本助力產(chǎn)能擴(kuò)張
恒坤新材通過科創(chuàng)板IPO募資15億元,擴(kuò)大KrF光刻膠產(chǎn)能并布局集成電路前驅(qū)體項(xiàng)目。彤程新材半導(dǎo)體光刻膠業(yè)務(wù)2024年上半年?duì)I收增長54.43%,ArF光刻膠開始形成銷售。

吉田半導(dǎo)體 JT-3001 厚板光刻膠:歐盟 RoHS 認(rèn)證,PCB 電路板制造

憑借抗深蝕刻性能與環(huán)保特性,吉田 JT-3001 厚板光刻膠成為 PCB 行業(yè)材料。
吉田半導(dǎo)體推出的 JT-3001 厚板光刻膠,分辨率達(dá) 1.5μm,抗深蝕刻速率 > 500nm/min,適用于高密度電路板制造。產(chǎn)品通過歐盟 RoHS 認(rèn)證,采用無鹵無鉛配方,符合環(huán)保要求。其優(yōu)異的感光度與留膜率,確保復(fù)雜線路圖形的成型,已應(yīng)用于華為 5G 基站主板量產(chǎn)。公司提供從材料選型到工藝優(yōu)化的全流程支持,助力客戶提升生產(chǎn)效率與良率。
光刻膠技術(shù)突破加速,對芯片制造行業(yè)有哪些影響?

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國際標(biāo)準(zhǔn)與客戶認(rèn)證
公司通過ISO9001、ISO14001等認(rèn)證,并嚴(yán)格執(zhí)行8S現(xiàn)場管理,生產(chǎn)環(huán)境潔凈度達(dá)Class 10級。其光刻膠產(chǎn)品已通過京東方、TCL華星的供應(yīng)商認(rèn)證,在顯示面板領(lǐng)域的市占率約5%,成為本土企業(yè)中少數(shù)能與日本JSR、德國默克競爭的廠商。

全流程可追溯體系
吉田半導(dǎo)體建立了從原材料入庫到成品出庫的全流程追溯系統(tǒng),關(guān)鍵批次數(shù)據(jù)(如樹脂分子量分布、光敏劑純度)實(shí)時(shí)上傳云端,確保產(chǎn)品一致性和可追溯性。這一體系使其在車規(guī)級芯片等對可靠性要求極高的領(lǐng)域獲得突破,2023年車用光刻膠銷售額同比增長120%。
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吉田半導(dǎo)體 SU-3 負(fù)性光刻膠:國產(chǎn)技術(shù)賦能 5G 芯片封裝

自主研發(fā) SU-3 負(fù)性光刻膠支持 3 微米厚膜加工,成為 5G 芯片高密度封裝材料。
針對 5G 芯片封裝需求,吉田半導(dǎo)體自主研發(fā) SU-3 負(fù)性光刻膠,分辨率達(dá) 1.5μm,抗深蝕刻速率 > 500nm/min。其超高感光度與耐化學(xué)性確保復(fù)雜圖形的完整性,已應(yīng)用于高通 5G 基帶芯片量產(chǎn)。產(chǎn)品采用國產(chǎn)原材料與工藝,不采用國外材料,成本較進(jìn)口產(chǎn)品降低 40%,幫助客戶提升封裝良率至 98.5%,為國產(chǎn) 5G 芯片制造提供關(guān)鍵材料支撐。
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