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安徽油墨光刻膠品牌

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2025-06-12

 綠色制造與循環(huán)經(jīng)濟(jì)
公司采用水性光刻膠技術(shù),溶劑揮發(fā)量較傳統(tǒng)產(chǎn)品降低60%,符合歐盟REACH法規(guī)和國(guó)內(nèi)環(huán)保標(biāo)準(zhǔn)。同時(shí),其光刻膠廢液回收項(xiàng)目已投產(chǎn),通過(guò)膜分離+精餾技術(shù)實(shí)現(xiàn)90%溶劑循環(huán)利用,年減排VOCs(揮發(fā)性有機(jī)物)超100噸。

 低碳供應(yīng)鏈管理
吉田半導(dǎo)體與上游供應(yīng)商合作開(kāi)發(fā)生物基樹(shù)脂,部分產(chǎn)品采用可再生原料(如植物基丙烯酸酯),碳排放強(qiáng)度較傳統(tǒng)工藝降低30%。這一舉措使其在光伏電池和新能源汽車領(lǐng)域獲得客戶青睞,相關(guān)訂單占比從2022年的15%提升至2023年的25%。
吉田技術(shù)自主化與技術(shù)領(lǐng)域突破!安徽油墨光刻膠品牌

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廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,各有特性與優(yōu)勢(shì),適用于不同領(lǐng)域。

LCD 正性光刻膠 YK - 200:具有較大曝光、高分辨率、良好涂布和附著力的特點(diǎn),重量 100g。適用于液晶顯示領(lǐng)域的光刻工藝,能確保 LCD 生產(chǎn)過(guò)程中圖形的精確轉(zhuǎn)移和良好的涂布效果。

半導(dǎo)體正性光刻膠 YK - 300:具備耐熱耐酸、耐溶劑性、絕緣阻抗和緊密性,重量 100g。主要用于半導(dǎo)體制造工藝,滿足半導(dǎo)體器件對(duì)光刻膠在化學(xué)穩(wěn)定性和電氣性能方面的要求。

耐腐蝕負(fù)性光刻膠 JT - NF100:重量 1L,具有耐腐蝕的特性,適用于在有腐蝕風(fēng)險(xiǎn)的光刻工藝中,比如一些特殊環(huán)境下的半導(dǎo)體加工或電路板制造。 青島LCD光刻膠供應(yīng)商廣東光刻膠廠家哪家好?

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 全品類覆蓋與定制化能力
吉田半導(dǎo)體的光刻膠產(chǎn)品覆蓋芯片光刻膠、納米壓印光刻膠、LCD光刻膠等全品類,適用于半導(dǎo)體、顯示面板、MEMS等多個(gè)領(lǐng)域。例如,其LCD正性光刻膠YK-200和水油光刻膠JT-2001可滿足0.45μm及以上線寬需求,支持客戶定制化工藝參數(shù),尤其在柔性顯示(OLED)和Mini/Micro LED等新興領(lǐng)域表現(xiàn)突出。
技術(shù)亮點(diǎn):通過(guò)自主研發(fā)的樹(shù)脂配方和光敏劑體系,實(shí)現(xiàn)了高分辨率(120nm)和高抗蝕性的平衡,部分指標(biāo)(如線寬粗糙度LWR<3nm)接近國(guó)際主流產(chǎn)品水平。

 國(guó)產(chǎn)化材料與工藝適配
公司采用進(jìn)口原材料+本地化生產(chǎn)模式,關(guān)鍵樹(shù)脂單體、光敏劑等主要成分通過(guò)德國(guó)默克、日本信越等供應(yīng)商采購(gòu),同時(shí)建立了超純提純工藝(雜質(zhì)含量<1ppm),確保產(chǎn)品穩(wěn)定性。此外,其光刻膠與國(guó)內(nèi)主流光刻機(jī)(如上海微電子SSA800)、勻膠顯影機(jī)(如盛美上海)的兼容性已通過(guò)驗(yàn)證,縮短客戶工藝調(diào)試周期。

吉田半導(dǎo)體厚板光刻膠 JT-3001:國(guó)產(chǎn)技術(shù)助力 PCB 行業(yè)升級(jí)

JT-3001 厚板光刻膠支持 500nm/min 深蝕刻,成為國(guó)產(chǎn) PCB 電路板制造推薦材料。
吉田半導(dǎo)體自主研發(fā)的 JT-3001 厚板光刻膠,分辨率 1.5μm,抗深蝕刻速率 > 500nm/min,適用于高密度 PCB 制造。其無(wú)鹵無(wú)鉛配方通過(guò)歐盟 RoHS 認(rèn)證,已應(yīng)用于華為 5G 基站主板量產(chǎn)。產(chǎn)品采用國(guó)產(chǎn)原材料與全自動(dòng)化工藝,批次穩(wěn)定性達(dá) 99.5%,幫助客戶提升生產(chǎn)效率 20%,加速國(guó)產(chǎn) PCB 行業(yè)技術(shù)升級(jí),推動(dòng) PCB 行業(yè)國(guó)產(chǎn)化進(jìn)程。
光刻膠廠家推薦吉田半導(dǎo)體。

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 晶圓制造(前道工藝)

? 功能:在硅片表面形成高精度電路圖形,是光刻工藝的主要材料。

? 細(xì)分場(chǎng)景:

? 邏輯/存儲(chǔ)芯片:用于28nm及以上成熟制程的KrF光刻膠(分辨率0.25-1μm)、14nm以下先進(jìn)制程的ArF浸沒(méi)式光刻膠(分辨率≤45nm),以及極紫外(EUV)光刻膠(目標(biāo)7nm以下,研發(fā)中)。

? 功率半導(dǎo)體(如IGBT):使用厚膜光刻膠(膜厚5-50μm),滿足深溝槽刻蝕需求。

? MEMS傳感器:通過(guò)高深寬比光刻膠(如SU-8)實(shí)現(xiàn)微米級(jí)結(jié)構(gòu)(如加速度計(jì)、陀螺儀的懸臂梁)。

 芯片封裝(后道工藝)

? 先進(jìn)封裝技術(shù):

? Flip Chip(倒裝芯片):用光刻膠形成凸點(diǎn)(Bump)下的 Redistribution Layer(RDL),線寬精度要求≤10μm。

? 2.5D/3D封裝:在硅通孔(TSV)工藝中,光刻膠用于定義通孔開(kāi)口(直徑5-50μm)。

正性光刻膠生產(chǎn)原料。福州阻焊油墨光刻膠

納米壓印光刻膠哪家強(qiáng)?吉田半導(dǎo)體附著力提升 30%!安徽油墨光刻膠品牌

  1. 產(chǎn)品特點(diǎn):耐溶劑型優(yōu)良,抗潮耐水性好,耐印率高;固含量高,流平性好,涂布性能優(yōu)良;經(jīng)特殊乳化聚合技術(shù)處理,網(wǎng)版平滑、無(wú)白點(diǎn)、無(wú)沙眼、亮度高;剝膜性好,網(wǎng)版可再生使用;解像性、高架橋性好,易做精細(xì)網(wǎng)點(diǎn)和線條;感光度高,曝光時(shí)間短,曝光寬容度大,節(jié)省網(wǎng)版作業(yè)時(shí)間,提高工作效率 。
  2. 應(yīng)用范圍:適用于塑料、皮革、標(biāo)牌、印刷電路板(PCB)、廣告宣傳、玻璃、陶瓷、紡織品等產(chǎn)品的印刷。例如在塑料表面形成牢固圖案,滿足皮革制品精細(xì)印刷需求,制作各類標(biāo)牌保證圖案清晰,用于 PCB 制造滿足高精度要求等。
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