作為東莞松山湖的企業(yè)，吉田半導體深耕光刻膠領(lǐng)域 23 年，成功研發(fā)出 YK-300 半導體正性光刻膠與 JT-2000 納米壓印光刻膠。YK-300 適用于 45nm 及以上制程，線寬粗糙度（LWR）≤3nm，良率達 98% 以上，已通過中芯國際等晶圓廠驗證；JT-2000 突破耐高溫極限，在 250℃復雜環(huán)境下仍保持圖形穩(wěn)定性，適用于 EUV 光刻前道工藝。依托進口原材料與全自動化生產(chǎn)工藝，產(chǎn)品通過 ISO9001 認證及歐盟 RoHS 標準，遠銷全球并與跨國企業(yè)建立長期合作，加速國產(chǎn)替代進程。感光膠的工藝和應用。內(nèi)蒙古厚膜光刻膠

• YK-300 正性光刻膠：分辨率達 0.35μm，線寬粗糙度（LWR）≤3nm，適用于 45nm 及以上制程，良率達 98% 以上，成本較進口產(chǎn)品降低 40%，已通過中芯國際量產(chǎn)驗證。
• SU-3 負性光刻膠：支持 3μm 厚膜加工，抗深蝕刻速率 > 500nm/min，成功應用于高通 5G 基帶芯片封裝，良率提升至 98.5%。
• JT-2000 納米壓印光刻膠：突破 250℃耐高溫極限，圖形保真度 > 95%，性能對標德國 MicroResist 系列，已應用于國產(chǎn) EUV 光刻機前道工藝。

廣東吉田半導體材料有限公司的產(chǎn)品體系豐富且功能強大。

在光刻膠領(lǐng)域，芯片光刻膠為芯片制造中的精細光刻環(huán)節(jié)提供關(guān)鍵支持，確保芯片線路的精細刻畫；

納米壓印光刻膠適用于微納加工，助力制造超精細的微納結(jié)構(gòu)；

LCD 光刻膠則滿足液晶顯示面板生產(chǎn)過程中的光刻需求，保障面板成像質(zhì)量。

在電子焊接方面，半導體錫膏與焊片性能，能實現(xiàn)可靠的電氣連接，廣泛應用于各類電子設(shè)備組裝。

靶材產(chǎn)品在材料濺射沉積工藝中發(fā)揮關(guān)鍵作用，通過精細控制材料沉積，為半導體器件制造提供高質(zhì)量的薄膜材料。憑借出色品質(zhì)，遠銷全球，深受眾多世界 500 強企業(yè)和電子加工企業(yè)青睞 。 高分辨率光刻膠需滿足亞微米甚至納米級線寬的圖形化需求。杭州油墨光刻膠國產(chǎn)廠家

化學放大光刻膠（CAR）采用光酸催化劑，可顯著提高深紫外（DUV）曝光效率。內(nèi)蒙古厚膜光刻膠