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剛撓印制電路板去鉆污及凹蝕技術(shù)

來源: 發(fā)布時間:2018-12-26


剛撓印制電路板濕法去鉆污及凹蝕技術(shù)由以下三個步驟組成: 

利用醇醚類膨松藥水軟化孔壁基材,破壞高分子結(jié)構(gòu),進而增加可被氧化之表面積,以使其氧化作用容易進行,一般使用丁基卡必醇使孔壁基材溶脹。 



(2)鉻酸法:由于鉻酸具有強烈的氧化性,其浸蝕能力強,所以它能使孔壁高分子物質(zhì)長鏈斷開,并發(fā)生氧化、磺化作用,于表面生成較多的親水性基團,如羰基(-C=O)、羥基(-OH)、磺酸基(-SO3H)等,從而提高其親水性,調(diào)整孔壁電荷,并達到去除孔壁鉆污和凹蝕的目的。一般工藝配方如下: 

溫度:50-60℃ 時間:10-15min 

按照此方法對打孔以后的剛-撓印制電路板去鉆污及凹蝕,然后對孔進行金屬化,對金屬化孔進行了金相分析和熱應(yīng)力實驗,結(jié)果完全符合GJB962A-32標準。   

所以,鉻酸法也適應(yīng)于剛-撓印制電路板的去鉆污及凹蝕,針對小企業(yè)而言,該方法的確非常適合,簡單易操作,更主要的是成本,但該方法***的遺憾是存在有毒物質(zhì)鉻酐。 

(3)堿性高錳酸鉀法:目前,很多PCB廠家由于缺少專業(yè)的工藝,仍然沿襲剛性多層印制電路板去鉆污及凹蝕技術(shù)--堿性高錳酸鉀技術(shù)來處理剛-撓印制電路板,通過該方法去除樹脂鉆污后,同時能蝕刻樹脂表面使其表面產(chǎn)生細小凸凹不平的小坑,以便提高孔壁鍍層與基體的結(jié)合力,在高溫高堿的環(huán)境下,利用高錳酸鉀氧化除去溶脹的樹脂鉆污,該體系對于一般的剛性多層板很湊效,但對于剛-撓印制電路板不適應(yīng),因為剛-撓印制電路板的主體絕緣基材聚酰亞胺不耐堿性,在堿性溶液中要溶脹甚至少部分溶解,更何況是高溫高堿的環(huán)境。如果采用此方法,即使當時剛-撓印制電路板沒報廢,也為以后采用該剛-撓印制電路板的設(shè)備的可靠性大打折扣。 


 O2+CF4O+OF+CO+COF+F+e-+……. 

【等離子體】 

SiO2+[O+OF+CF3+CO+F+…]SiF4+CO2+CaL 

至此,實現(xiàn)了剛撓印制電路板的等離子體處理。 

值得注意的是原子狀態(tài)的O與C-H和C=C發(fā)生羰基化反應(yīng)而使高分子鍵上增加了極性基團,使高分子材料表面的親水性得到改善。 

 O2+CF4等離子體處理過的剛-撓印制電路板,再用 O2等離子體處理,不但可以使孔壁潤濕性(親水性)得到改善,同時可以去除反應(yīng)。結(jié)束后的沉積物和反應(yīng)不完全的中途產(chǎn)物。用等離子體技術(shù)去鉆污及凹蝕的方法處理剛-撓印制電路板并且經(jīng)過直接電鍍以后,對金屬化孔進行了金相分析和熱應(yīng)力實驗,結(jié)果完全符合GJB962A-32標準。 

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