真萍科技電腦式潔凈節(jié)能氮氣柜主要應用于防止晶圓片的潮濕、氧化及被其它氣體(ex阿摩利亞氣體)破壞，防止探針卡潮濕及氧化，防止光罩的受潮---黃光部封裝的金線，液防止晶的受潮，以及防止線路板受潮。下面為大家簡單介紹一下真萍科技電腦式潔凈節(jié)能氮氣柜的氮氣監(jiān)控系統(tǒng)。1.溫濕度記錄功能：1.2內建內存，可儲存溫度/濕度，收集時間1~240分鐘可自行設定。1.3可利用RS232連接阜下載至計算機中讀取。1.4品管記錄格式設計，有助于內部記錄追蹤并可支持數(shù)據(jù)庫檔案格式。2.濕度警報系統(tǒng)：2.1可設定啟動警報的濕度值及條件，內配蜂鳴器（90分貝）及閃爍警示功能。2.2可另外選配積層式警示燈。3.溫濕度偏移校正功能：內建校正功能，確保顯示準確度。試驗箱的發(fā)展趨勢如何？常州生產(chǎn)試驗箱

真萍科技電腦式潔凈節(jié)能氮氣柜主要應用于解決晶圓片的潮濕、氧化及被其它氣體(ex阿摩利亞氣體)破壞，解決探針卡潮濕及氧化問題解決光罩的受潮問題---黃光部封裝的金線，解決液晶的受潮問題，解決線路板受潮問題。下面為大家簡單介紹一下真萍科技電腦式潔凈節(jié)能氮氣柜的過濾系統(tǒng)。1.EBM電子式EC馬達控制無塵室FFU。2.鏡面不銹鋼結構體。3.特殊導流風道設計，風壓平均，可有效提供風量，降低噪音。4.電路板控制模塊，提供安全保護裝置，運轉異常指示燈及控制干接點輸出。5.無段式風量調速器可任意調整風量大小。6.濾網(wǎng)ULPA，0.12μm，99.9995%以上的過濾效果。7.電力規(guī)格：單相220V50Hz0.95A，輸出功率150W。北京生產(chǎn)試驗箱合肥真萍試驗箱的運用領域。

恒溫恒濕箱試驗箱是航空、汽車、家電、科研等領域必備的檢測設備，用于測試電子、電工及其它產(chǎn)品及材料進行高溫、低溫、交變濕熱度或恒定試驗的溫度環(huán)境變化參數(shù)及性能。該系列產(chǎn)品適用于航空航天產(chǎn)品、信息電子儀器儀表、材料、電工、電子產(chǎn)品、各種電子元氣件在高低溫或濕熱環(huán)境下、檢驗其各項性能指標。下面為大家介紹一下真萍科技的恒溫恒濕試驗箱的控制特點。試驗箱的控制系統(tǒng)可說是整個設備的心臟，掌管著制冷、制熱、控濕、循環(huán)、控制等大權。

真萍科技潔凈烘箱是參照GB/T11158-1989，GB2423，2-1989干燥箱技術條件及中國相關標準研究制造，廣泛應用于電子液晶顯示，LCD,CMOS,IC，醫(yī)藥實驗室等生產(chǎn)及科研部門。下面為大家介紹一下潔凈烘箱的技術指標。1.無塵等級：Class100：（符合FED-STD209E標準：0.3um≤300個0.5≤100個）2.溫度范圍：+60℃~+250℃（極限溫度350℃）3.溫度均勻性：±2℃（空箱測試）4.溫度精確度：±1℃（空箱測試）5.設備型號規(guī)格:450*450*450；450*600*450；600*800*600；600*700*600;700*900*700;700*1000*700;800*1000*800;800*1200*800;1000*1200*1000;1000*1300*1000;1000*1400*1000;合肥真萍告訴您使用試驗箱的便捷性。

精密鼓風烘箱適用于電子元器件、橡膠、塑料、裝飾材料等行業(yè)對溫度均勻性要求比較嚴格的實驗。下面為大家介紹一下真萍科技精密鼓風烤箱的箱體結構。1.本設備由室體、加熱系統(tǒng)、電氣控制系統(tǒng)、送風系統(tǒng)、保護系統(tǒng)等組成。2.箱體采用先進設備制作、先進的工藝制造流程、線條流暢，美觀大方。3.工作室材質為不銹鋼SUS304材質，外箱材質為冷軋鋼板，產(chǎn)品外殼采用環(huán)保金屬漆噴制，整體設計美觀大方，適合實驗室的顏色搭配。4.工作室內擱架可隨用戶的要求任意調節(jié)高度以及擱架的數(shù)量。5.工作室與外箱之間的保溫材料為超細玻璃纖維保溫棉，保溫層厚度：＞70mm,隔溫效果好，國內，高性能的絕緣結構。從里到外有內腔、內殼、超細玻璃纖維、鋁制反射鋁箔片、空氣夾層，內膽熱量損失少。內膽外箱及門膽結構獨特，極大減少了內腔熱量的外傳。上海哪家的試驗箱比較好？高低溫試驗箱多少錢一臺

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本篇介紹專業(yè)全自動HMDS真空烤箱，首先簡單介紹一下HMDS預處理系統(tǒng)的必要性：在半導體生產(chǎn)工藝中，光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環(huán)節(jié)，涂膠質量直接影響到光刻的質量，涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導致光刻圖形轉移的失敗，同時濕法腐蝕容易發(fā)生側向腐蝕。增黏劑HMDS（六甲基二硅氮烷）可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后，經(jīng)烘箱加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?，其疏水基可很好地與光刻膠結合，起著偶聯(lián)劑的作用。常州生產(chǎn)試驗箱