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上海存儲柜規(guī)格尺寸

來源: 發(fā)布時間:2025-05-23

真萍科技電腦式潔凈節(jié)能氮氣柜主要應用于解決晶圓片的潮濕、氧化及被其它氣體(ex阿摩利亞氣體)破壞,解決探針卡潮濕及氧化問題解決光罩的受潮問題---黃光部封裝的金線,解決液晶的受潮問題,解決線路板受潮問題。下面為大家簡單介紹一下真萍科技電腦式潔凈節(jié)能氮氣柜的過濾系統(tǒng)。1.EBM電子式EC馬達控制無塵室FFU。2.鏡面不銹鋼結構體。3.特殊導流風道設計,風壓平均,可有效提供風量,降低噪音。4.電路板控制模塊,提供安全保護裝置,運轉異常指示燈及控制干接點輸出。5.無段式風量調速器可任意調整風量大小。6.濾網ULPA,0.12μm,99.9995%以上的過濾效果。7.電力規(guī)格:單相220V50Hz0.95A,輸出功率150W。有哪些領域需要使用存儲柜?上海存儲柜規(guī)格尺寸

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真萍科技精密鼓風烤箱采用進口液晶顯示控制器,產品采用綜合的電磁兼容設計和人性化的菜單設計,使得設備操作完全傻瓜化,控溫效果較好。高亮度寬視窗液晶顯示,示值清晰、直觀。微電腦智能控制。設定溫度和時間后,儀表自行控制加熱功率,并顯示加熱狀態(tài),控溫精確而穩(wěn)定。超溫報警并自動切斷加熱電源。電器控制系統(tǒng):1.電氣控制元器件均采用國內品牌“正泰”2.電氣線路設計新穎,合理布線,安全可靠3.箱體頂部為電氣控制柜,方便于集中檢查維修安全保護系統(tǒng):1.超溫報警2.欠相缺相保護3.過電流保護4.快速熔斷器5.接地保護泉州存儲柜的工廠存儲柜的原理是什么?合肥真萍告訴您。

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下面為大家介紹一下全自動HMDS真空烤箱的整機尺寸、真空腔體尺寸。1.內膽尺寸:650*650*650;450*450*450mm;300*300*300mm;2.載物托架:2塊3.室溫+10℃-250℃控溫范圍:溫度分辨率:0.1℃溫度波動度:0.5℃4.真空泵:油泵或無油真空泵。真空度:133pa,5.加熱方式:腔體下部及兩側加溫。加熱器為外置加熱板(防止一側加熱使的HMDS液進入箱體內不能完本轉成氣態(tài))6.可放2寸晶圓片或4寸晶圓片;6寸晶圓片;8寸晶圓片等。7.開箱溫度可以由user自行設定來降低process時間(正常工藝在50分鐘-120分鐘(按產品所需而定烘烤時間),為正常工作周期不含降溫時間(因降溫時間為常規(guī)降溫)。

電熱鼓風烤箱適用于各種產品或材料及電氣、儀表、元器件、電子、電工及汽車、航空、通訊塑膠、機械、食品、化工、化學品、五金工具在恒溫環(huán)境條件下作干燥和各種恒溫適應性試驗。下面為大家介紹一下真萍科技電熱鼓風烤箱的箱體結構。1.本烘箱由室體、加熱系統(tǒng)、電氣控制系統(tǒng)、送風系統(tǒng)、保護系統(tǒng)等組成。2.箱體采用先進設備制作、業(yè)內的制造工藝流程、線條流暢、美觀大方。3.工作室材質為不銹鋼、外箱材質為優(yōu)良冷軋鋼板,產品外殼使用環(huán)保金屬漆噴制,整體設計美觀大方,適合優(yōu)良實驗室的顏色搭配。4.工作室內的擱架不可調節(jié)。合肥真萍科技告訴您存儲柜的外觀設計有哪些要求。

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真萍科技潔凈烘箱是參照GB/T11158-1989,GB2423,2-1989干燥箱技術條件及中國相關標準研究制造,廣泛應用于電子液晶顯示,LCD,CMOS,IC,醫(yī)藥實驗室等生產及科研部門。下面為大家介紹一下潔凈烘箱的技術指標。1.無塵等級:Class100:(符合FED-STD209E標準:0.3um≤300個0.5≤100個)2.溫度范圍:+60℃~+250℃(極限溫度350℃)3.溫度均勻性:2℃(空箱測試)4.溫度精確度:1℃(空箱測試)5.設備型號規(guī)格:450*450*450;450*600*450;600*800*600;600*700*600;700*900*700;700*1000*700;800*1000*800;800*1200*800;1000*1200*1000;1000*1300*1000;1000*1400*1000;合肥真萍科技存儲柜價格更優(yōu)惠。漳州存儲柜參考價格

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本篇介紹專業(yè)全自動HMDS真空烤箱,首先簡單介紹一下HMDS預處理系統(tǒng)的必要性:在半導體生產工藝中,光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環(huán)節(jié),涂膠質量直接影響到光刻的質量,涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導致光刻圖形轉移的失敗,同時濕法腐蝕容易發(fā)生側向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后,經烘箱加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?,其疏水基可很好地與光刻膠結合,起著偶聯(lián)劑的作用。上海存儲柜規(guī)格尺寸

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