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來源: 發(fā)布時間:2022-01-03

下面為大家介紹一下石墨盤真空烤盤爐的技術(shù)指標(biāo)。1.使用溫度:1450℃;比較高溫度:1500℃;2.絕熱材料:石墨纖維毯、石墨紙;3.加熱元件:石墨加熱棒;4.冷卻方式:氣冷+循環(huán)風(fēng)冷降溫;5.控溫穩(wěn)定度:±2℃,具有PID參數(shù)自整定功能;6.爐膛溫度均勻度:±5℃(恒溫1500℃);7.氣氛:可向爐膛內(nèi)通入干燥、潔凈、無油的高純度氮氣,純度≥99.999%;8.極限真空:10-3torr級;9.抽氣速率:空載下,30min達到10-2torr10.升溫功率:170kW;11.升溫速率:15℃/min(空載);12.降溫速率:1450℃至80℃,240分鐘13.腔體尺寸:1000*1000*1000mm(寬*深*高)網(wǎng)帶爐的運用領(lǐng)域是什么?溫州烘干網(wǎng)帶爐

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下面為大家介紹一下全自動HMDS真空烤箱的技術(shù)指標(biāo)。1.機外殼采用冷扎鋼板噴塑處理,內(nèi)膽為不銹鋼316L材料制成;加熱器均勻分布在內(nèi)膽外壁四周,內(nèi)膽內(nèi)無任何電氣配件及易燃易爆裝置。鋼化、防彈雙層玻璃門觀察工作室內(nèi)物體一目了然。2.箱門閉合松緊能調(diào)節(jié),整體成型的硅橡膠門封圈,確保箱內(nèi)高真空度。3.微電腦智能控溫儀,具有設(shè)定,測定溫度雙數(shù)字顯示和PID自整定功能,控溫精確,可靠。4.智能化觸摸屏控制系統(tǒng)配套日本三菱PLC模塊可供用戶根據(jù)不同制程條件改變程序,溫度,真空度及每一程序時間。5.HMDS氣體密閉式自動吸取添加設(shè)計,真空箱密封性能佳,確保HMDS氣體無外漏顧慮。整個系統(tǒng)采用優(yōu)良材料制造,無發(fā)塵材料,適用100級光刻間凈化環(huán)境。嘉興小型網(wǎng)帶爐上海網(wǎng)帶爐的價格是多少?

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真空烘箱是將干燥物料處于負壓條件下進行干燥的一種箱體式干燥設(shè)備。它是利用真空泵進行抽氣抽濕,使工作室內(nèi)形成真空狀態(tài),降低水的沸點,加快干燥的速度。下面為大家介紹一下真萍科技真空烘箱的特點。一、真空程序分段控制該型號機型,抽真空過程可提供程序化編程,只需根據(jù)客戶要求編輯設(shè)定真空值,保壓時間值。相當(dāng)大可實現(xiàn)18段抽真空和保壓編程。二、操作步驟1.接通電源;2.產(chǎn)品送入腔體,關(guān)門;3.打開電源;4.工作溫度設(shè)定好,啟動加熱,設(shè)備進入自動恒溫狀態(tài);5.真空值和時間設(shè)定好后,啟動真空泵,開始進入自動抽真空階段;6.到達時間值后,真空泵自動關(guān)閉。

下面為大家介紹一下全自動HMDS真空烤箱的技術(shù)指標(biāo)。1.HMDS管路加熱功能,使HMDS液體進入箱體的前端管路加熱,使轉(zhuǎn)為HMDS氣態(tài)時更易。2.低液報警裝置,采用紅外液體感測器,能及時靈敏給出指令(當(dāng)HMDS液過低時發(fā)出報警及及時切斷工作起動功能)3.溫度與PLC聯(lián)動保護功能(當(dāng)PLC沒有啟動程序時,加溫功能啟動不了,相反加溫功能啟動時,PLC程序不按正常走時也及時切斷工作功能,發(fā)出警報)4.整個箱體及HMDS氣體管路采用SUS316不銹鋼材料,整體使用無縫焊接(避免拼接導(dǎo)致HMDS液體腐蝕外泄對人體的傷害)你知道網(wǎng)帶爐的特點嗎?

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超高真空烘箱被廣泛應(yīng)用于航空、航天、電子、通訊等科研及生產(chǎn)單位,用于確定儀器儀表、電工產(chǎn)品、材料、零部件、設(shè)備等在低氣壓、高溫單項或同時作用下的環(huán)境適應(yīng)性與可靠性試驗。下面為大家介紹一下超高真空烘箱的降溫速率。1.升溫時間:①常壓時:90min(常溫~+260℃)②低氣壓0.0001pa時:180min(常溫~+260℃)2.降溫時間:3℃~10℃/min(260℃~120℃),1℃~5℃/min(120℃~常溫℃)3.降溫方式:水冷降溫4.試驗箱承壓方式:采用內(nèi)承壓方式5.壓力范圍:常壓~0.0001Pa。網(wǎng)帶爐的基本結(jié)構(gòu)級應(yīng)用!杭州烘干網(wǎng)帶爐專賣

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光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗,同時濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后,經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?,其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合,起著偶聯(lián)劑的作用。溫州烘干網(wǎng)帶爐

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