維度光電Dimension-Labs BeamHere 系列作為全光譜光束分析解決方案，致力于為激光技術(shù)應(yīng)用提供 "一站式" 質(zhì)量管控工具。產(chǎn)品矩陣覆蓋 190-2700nm 超寬光譜，融合掃描狹縫式（2.5μm-10mm 光斑）與相機(jī)式（400-1700nm 成像）兩大技術(shù)平臺，形成從亞微米級高功率檢測到毫米級動態(tài)監(jiān)測的立體覆蓋。通過 ISO 11146 認(rèn)證的 M2 因子測試模塊，結(jié)合 AI 算法，實(shí)現(xiàn)光束質(zhì)量的量化評估與預(yù)測。模塊化設(shè)計支持設(shè)備功能動態(tài)擴(kuò)展，適配激光加工、醫(yī)療、科研等多場景需求，助力客戶構(gòu)建智能化光束檢測體系。無干涉條紋的光斑質(zhì)量分析儀。近場光斑光斑分析儀

維度光電 BeamHere 系列為激光光束質(zhì)量檢測提供高性價比解決方案： 掃描狹縫式：國內(nèi)刀口 / 狹縫雙模式切換，覆蓋 190-2700nm 光譜，可測 2.5μm-10mm 光束，0.1μm 分辨率實(shí)現(xiàn)亞微米級光斑分析。創(chuàng)新狹縫衰減機(jī)制支持 10W 級高功率直接測量，無需外置衰減片。 相機(jī)式：400-1700nm 寬譜響應(yīng)，支持實(shí)時 2D/3D 成像與非高斯光束測量。六濾光片轉(zhuǎn)輪設(shè)計擴(kuò)展功率量程，可拆卸結(jié)構(gòu)兼顧工業(yè)檢測與科研成像需求。 M2 測試模塊：通過 ISO 11146 標(biāo)準(zhǔn)算法，測量 M2 因子、發(fā)散角、束腰位置等參數(shù)，適配全系產(chǎn)品。 配套 BeamHere 軟件提供直觀操作界面，支持一鍵生成標(biāo)準(zhǔn)化報告，滿足光通信、醫(yī)療、工業(yè)等多場景需求。系統(tǒng)以模塊化設(shè)計實(shí)現(xiàn)高精度檢測，助力客戶提升效率與產(chǎn)品質(zhì)量。光束直徑光斑分析儀怎么測量可用于產(chǎn)線檢測的光斑分析儀。

使用 BeamHere 光斑分析儀測量光斑與光束質(zhì)量的流程 1. 成像原理 BeamHere 采用背照式 CMOS 傳感器，量子效率達(dá) 95%（500-1000nm），配合非球面透鏡組實(shí)現(xiàn)無畸變成像。 2. 信號處理 采集到的模擬信號經(jīng) 16 位 ADC 轉(zhuǎn)換，通過數(shù)字濾波算法消除噪聲，確保弱光信號（SNR>40dB）還原。 3. 參數(shù)計算 光斑尺寸：基于高斯擬合與閾值分割法 M2 因子：采用 ISO 11146-1:2005 標(biāo)準(zhǔn)的二階矩法 發(fā)散角：通過不同位置光斑尺寸計算斜率 4. 校準(zhǔn)流程 內(nèi)置波長校準(zhǔn)模塊（400-1700nm），每年需用標(biāo)準(zhǔn)光源進(jìn)行增益校準(zhǔn)，確保測量精度 ±1.5%。 5. 數(shù)據(jù)安全 測量數(shù)據(jù)自動加密存儲于本地數(shù)據(jù)庫，支持云端備份，符合 GDPR 數(shù)據(jù)保護(hù)法規(guī)。

Dimension-Labs 光斑分析儀系列采用差異化設(shè)計：掃描狹縫式側(cè)重高功率場景（千萬級功率），通過物理衰減機(jī)制實(shí)現(xiàn)安全測量，衰減級數(shù)達(dá) 10?:1，無需外置衰減片；相機(jī)式則主打?qū)捁庾V（200-2600nm）與實(shí)時成像功能，支持 100fps 高速連拍。相較于傳統(tǒng)設(shè)備，其 0.1μm 分辨率提升 10 倍以上，可解析直徑小于 5μm 的亞微米級光斑；M2 測試模塊支持光束傳播特性動態(tài)分析，通過滑軌式掃描獲取 100 + 測量點(diǎn)數(shù)據(jù)。軟件集成 AI 算法，可自動識別光斑模式，率達(dá) 99.7%，將人工分析效率提升 90%，單組數(shù)據(jù)處理時間從 20 分鐘縮短至 2 分鐘。國產(chǎn)的 M2 因子測量模塊哪家強(qiáng)？

維度光電將在以下領(lǐng)域持續(xù)創(chuàng)新： 多模態(tài)融合：波前傳感與光斑分析一體化設(shè)備，同步獲取振幅 / 相位信息 微型化突破：推出小型光束分析儀（尺寸 < 150mm3），支持現(xiàn)場快速檢測 智能化升級：引入數(shù)字孿生技術(shù)，構(gòu)建光束質(zhì)量預(yù)測模型 標(biāo)準(zhǔn)制定：主導(dǎo)制定《高功率激光光束測量技術(shù)規(guī)范》國家標(biāo)準(zhǔn) 行業(yè)影響： 工業(yè)：通過預(yù)測性維護(hù)降低設(shè)備停機(jī)率 25% 醫(yī)療：實(shí)現(xiàn)激光參數(shù)個性化調(diào)控 科研：加速矢量光束、超構(gòu)表面等前沿技術(shù)轉(zhuǎn)化 適合各類激光應(yīng)用中激光光束質(zhì)量測量與分析。用于激光加工測試的光斑質(zhì)量分析儀。近場光斑光斑分析儀制造商

光斑分析儀與M2測試模塊組合，實(shí)現(xiàn)對光束傳播方向的發(fā)散角、M2因子、聚焦直徑等測量。近場光斑光斑分析儀

光斑分析儀通過光學(xué)傳感器將光斑能量分布轉(zhuǎn)化為電信號，結(jié)合算法分析實(shí)現(xiàn)光束質(zhì)量評估。Dimension-Labs 產(chǎn)品采用雙技術(shù)路線：掃描狹縫式通過 0.1μm 超窄狹縫逐行掃描，實(shí)現(xiàn) 2.5μm 至 10mm 光斑的高精度測量；相機(jī)式則利用面陣傳感器實(shí)時成像，支持 200-2600nm 全光譜覆蓋。全系標(biāo)配 M2 因子測試模塊，結(jié)合 BeamHere 軟件，可自動計算發(fā)散角、橢圓率等參數(shù)，并生成符合 ISO 11146 標(biāo)準(zhǔn)的測試報告。 產(chǎn)品優(yōu)勢： 滿足測試需求的全系列產(chǎn)品 適配所有Beamhere光斑分析儀的M M2因子測試模塊 精心設(shè)計的分析軟件 軟件真正做到交互友好，簡單易用，一鍵輸出測試報告。近場光斑光斑分析儀