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來源: 發(fā)布時(shí)間:2023-12-15

據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的蝕刻液,其特征在于,進(jìn)一步含有α-羥基羧酸和/ 或α-羥基羧酸的鹽。 根據(jù)權(quán)利要求4所述的蝕刻液,其特征在于,所述α-羥基羧酸為選自由酒石酸、蘋果酸、檸檬酸、乳酸及甘油酸所組成的群組中的至少一種。 根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的蝕刻液,其特征在于,所述酸的濃度為20重量%至70重量%;所述有機(jī)硫化合物的濃度為0.01重量%至10重量%。 根據(jù)權(quán)利要求4至6中任一項(xiàng)所述的蝕刻液,其特征在于,所述α-羥基羧酸和/或α-羥基羧酸的鹽的濃度為0.2重量%至5重量%。友達(dá)光電用的哪家的BOE蝕刻液?江西專業(yè)BOE蝕刻液報(bào)價(jià)

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為了解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明采用以下技術(shù)方案: 一種PCB酸性蝕刻液提取銅的方法,包括以下步驟:將使用過的酸性蝕刻液收集到廢液池中,送入離子膜電解室;使低ORP的酸性蝕刻液從離子膜電解槽陽極低位進(jìn)入,當(dāng)ORP升高時(shí),高ORP的酸性蝕刻液再經(jīng)陽極區(qū)高位流出;高含銅量的蝕刻液從離子膜電解槽陰極區(qū)低位進(jìn)入,蝕刻廢液在電解作用下還原出銅單質(zhì),降低銅離子含量之后的蝕刻液從陰極高位流出,經(jīng)再生調(diào)配室調(diào)配后繼續(xù)用于蝕刻,蝕刻產(chǎn)生的廢液收集到廢液池中進(jìn)行循環(huán)處理;電解室電解過程中的鹽酸揮發(fā)進(jìn)入中和室進(jìn)行中和反應(yīng);對銅單質(zhì)進(jìn)行水洗烘干,即可得到提取的銅。上海什么是BOE蝕刻液哪里買哪家BOE蝕刻液質(zhì)量比較好一點(diǎn)?

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    三氯化鐵蝕刻液在印制電路、電子和金屬精飾等工業(yè)中被采用,一般用來蝕刻銅、銅合金、不銹鋼、鐵及鋅、鋁等。雖然近些年來越來越要求再生容易,更加環(huán)保的蝕刻液,但由于三氯化鐵蝕刻液它的工藝穩(wěn)定,操作方便,價(jià)格便宜,因此還仍然被廣大蝕刻加工企事業(yè)單位采用。三氯化鐵蝕刻液適用于網(wǎng)印抗蝕印料、液體感光膠、干膜、鍍金抗蝕層等抗蝕層的印制板的蝕刻。(但不適用于鎳、錫、錫-鉛合金等抗蝕層)1.蝕刻時(shí)的主要化學(xué)反應(yīng)三氯化鐵蝕刻液對銅箔的蝕刻是一個(gè)氧化-還原過程。在銅表面Fe3+使銅氧化成氯化亞銅。同時(shí)Fe3+被還原成Fe2+。FeCl3+Cu→FeCl2+CuClCuCl具有還原性,可以和FeCl3進(jìn)一步發(fā)生反應(yīng)生成氯化銅。FeCl3+CuCl→FeCl2+CuCl2Cu2+具有氧化性,與銅發(fā)生氧化反應(yīng):CuCl2+Cu→2CuCl所以,F(xiàn)eCl3蝕刻液對Cu的蝕刻時(shí)靠Fe3+和Cu2+共同完成的。其中Fe3+的蝕刻速率快,蝕刻質(zhì)量好;而Cu2+的蝕刻速率慢,蝕刻質(zhì)量差。新配制的蝕刻液中只有Fe3+,所以蝕刻速率較快。但是隨著蝕刻反應(yīng)的進(jìn)行,F(xiàn)e3+不斷消耗,而Cu2+不斷增加。當(dāng)Fe3+消耗掉35%時(shí),Cu2+已增加到相當(dāng)大的濃度,這時(shí)Fe3+和Cu2+對Cu的蝕刻量幾乎相等;當(dāng)Fe3+消耗掉50%時(shí)。 江西專業(yè)BOE蝕刻液報(bào)價(jià)

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