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湖北如何發(fā)展BOE蝕刻液生產(chǎn)

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2024-01-16

    然后將裝有蝕刻液的石英燒瓶放入加熱套中加熱,待加熱到確定溫度后,放入氮化硅樣片進(jìn)行蝕刻;蝕刻完后,取出樣片采用熱超純水清洗和氮?dú)獯蹈珊?,使用橢圓偏振光譜儀對(duì)蝕刻前所取位置的6個(gè)點(diǎn)的厚度進(jìn)行測(cè)量,計(jì)算蝕刻前后6個(gè)取點(diǎn)的厚度差值,對(duì)比6個(gè)點(diǎn)之間的厚度差值的差異。與現(xiàn)有的使用磷酸作為蝕刻液相比,本發(fā)明的有益效果是:醇醚類(lèi)和表面活性劑的添加能明顯改善磷酸溶液的浸潤(rùn)性和降低磷酸溶液的表面張力,有效提高了蝕刻液對(duì)氮化硅層的潤(rùn)濕性和蝕刻均勻性。具體實(shí)施方式下面結(jié)合具體實(shí)施例,進(jìn)一步闡述本發(fā)明,對(duì)本發(fā)明做進(jìn)一步詳細(xì)的說(shuō)明,但不限于這些實(shí)施例。本發(fā)明的蝕刻液配制時(shí)選擇的磷酸濃度為85%,蝕刻溫度為160℃,蝕刻時(shí)間為10min。先對(duì)所配制蝕刻液的表面張力進(jìn)行檢測(cè),然后將氮化硅樣片使用超純水清洗和氮?dú)獯蹈珊?,進(jìn)行接觸角的測(cè)量;蝕刻前使用超純水清洗和氮?dú)獯蹈傻铇悠?,在氮化硅樣片上?個(gè)不同位置的點(diǎn)對(duì)其厚度進(jìn)行測(cè)量;蝕刻完成后使用熱超純水清洗和氮?dú)獯蹈傻铇悠螅∨c蝕刻前相同位置的6個(gè)點(diǎn)進(jìn)行厚度測(cè)量。實(shí)施例1本發(fā)明的實(shí)施例按蝕刻液總質(zhì)量為400g進(jìn)行配制,先稱(chēng)取濃度為85%的磷酸,然后稱(chēng)取添加劑加入磷酸中。維信諾用的哪家的BOE蝕刻液?湖北如何發(fā)展BOE蝕刻液生產(chǎn)

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    asícomoeldeinstalaciónypruebasdelosmismos,deacuerdoconunasnormasycóásustituirseporotrodehomologació)Normasdeaplicación:Enlosplanosseindicaránlasnormasdeaplicaciónutilizadasparalaclasificacióndelosemplazamientosasícomolaseleccióndelosmaterialeseléctricos,ándecobre,conaislamientodePVCycubiertaexternadePVCresistentealoshidrocarburosynopropagadoradelallama,segúónylasintensidadesmáximasestaráónmecánica,oquedispongandearmaduraabasedehilosdeacerogalvanizado,susecciónmínimapodráserde2,5milímetroscuadrados,paraalimentacionesdefuerza;paraalumbradoycontrol,tendránunasecciónmínimadeunmilíálculodelaseccióndeloscables,laintensidadadmisibledelosconductoresdeberádisminuirseenun15por100,ademásdeaplicarlosfactoresdecorreccióndependiendodelascaracterísticasdelainstalacióándisponerdeunaproteccióncontracortocircuitosycontrasobrecargassiéánconconductordeproteccióásicas,tresfasesyconductordeprotección,encircuitosmonofásicos,fase。浙江技術(shù)密集BOE蝕刻液銷(xiāo)售廠(chǎng)質(zhì)量好的BOE蝕刻液的公司聯(lián)系方式。

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    形成氣液混合體,從擴(kuò)散管22排出又進(jìn)入到再生液調(diào)配缸3。電解再生某線(xiàn)路板生產(chǎn)線(xiàn)蝕刻廢液,蝕刻廢液量1000m3/d,相比沒(méi)有使用本實(shí)用新型所提供的酸性蝕刻液電解后液處理系統(tǒng),能耗節(jié)約40%,節(jié)約使用藥品100kg/d,經(jīng)濟(jì)效益提高30%。作為本實(shí)施例的一個(gè)示例,電解槽1的陽(yáng)極可選用石墨電極,陰極可選用鈦或鈦合金板狀電極,電解槽1中陰極與陽(yáng)極之間的距離為55mm,電解槽1的電流密度為300a/m2。與實(shí)施例相結(jié)合,圖2示出了本實(shí)用新型第二實(shí)施例提供的酸性蝕刻液電解后液處理系統(tǒng)的結(jié)構(gòu),在實(shí)施例的基礎(chǔ)上,第二實(shí)施例進(jìn)一步包括曝氣裝置5,曝氣裝置5通過(guò)管道深入到再生液調(diào)配缸3的液體中,用于向再生液調(diào)配缸3中的電解后液輸送氣體以進(jìn)行攪拌,以提高整個(gè)系統(tǒng)的工作效率。進(jìn)一步地,與上述、第二實(shí)施例相結(jié)合,酸性蝕刻液電解后液處理系統(tǒng)還可以包括一后續(xù)處理系統(tǒng),用于向經(jīng)過(guò)再生液調(diào)配缸3處理過(guò)的電解后液中加入氯化鈉、鹽酸并攪拌均勻,然后再打入到子液桶,實(shí)現(xiàn)再生液循環(huán)利用。以上所述為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已,并不用以限制本實(shí)用新型,凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進(jìn)等,均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。

    deacuerdoconlascantidadesindicadasenelapartadodelanormaUNE20-322.)ípicasaconsiderarson:1.oIsletasdedistribució.o.oLocalesoedificiosdeservicio,conalmacenajedelubricantes.)Influenciadelaventilacióónafectarádeformadirectaaltipoy/oextensióáíndicedeventilación(renovaciones/horas)elevadodetalformaqueelgradodepeligrosidaddelemplazamientopuedellegaraser?nopeligroso?.Portanto,aunenelcasodeunafuentedeescapedegradocontinuolascondicionesdelaventilaciónpuedencrearmásdeuntipodezonaalrededordelafuentedeescapeounazonadetipoyextensióndiferente.)Determinacióndelaextensió(cantidadmínimadesustanciainflamable。BOE蝕刻液適用于哪些行業(yè)。

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    三氯化鐵蝕刻液在印制電路、電子和金屬精飾等工業(yè)中被采用,一般用來(lái)蝕刻銅、銅合金、不銹鋼、鐵及鋅、鋁等。雖然近些年來(lái)越來(lái)越要求再生容易,更加環(huán)保的蝕刻液,但由于三氯化鐵蝕刻液它的工藝穩(wěn)定,操作方便,價(jià)格便宜,因此還仍然被廣大蝕刻加工企事業(yè)單位采用。三氯化鐵蝕刻液適用于網(wǎng)印抗蝕印料、液體感光膠、干膜、鍍金抗蝕層等抗蝕層的印制板的蝕刻。(但不適用于鎳、錫、錫-鉛合金等抗蝕層)1.蝕刻時(shí)的主要化學(xué)反應(yīng)三氯化鐵蝕刻液對(duì)銅箔的蝕刻是一個(gè)氧化-還原過(guò)程。在銅表面Fe3+使銅氧化成氯化亞銅。同時(shí)Fe3+被還原成Fe2+。FeCl3+Cu→FeCl2+CuClCuCl具有還原性,可以和FeCl3進(jìn)一步發(fā)生反應(yīng)生成氯化銅。FeCl3+CuCl→FeCl2+CuCl2Cu2+具有氧化性,與銅發(fā)生氧化反應(yīng):CuCl2+Cu→2CuCl所以,F(xiàn)eCl3蝕刻液對(duì)Cu的蝕刻時(shí)靠Fe3+和Cu2+共同完成的。其中Fe3+的蝕刻速率快,蝕刻質(zhì)量好;而Cu2+的蝕刻速率慢,蝕刻質(zhì)量差。新配制的蝕刻液中只有Fe3+,所以蝕刻速率較快。但是隨著蝕刻反應(yīng)的進(jìn)行,F(xiàn)e3+不斷消耗,而Cu2+不斷增加。當(dāng)Fe3+消耗掉35%時(shí),Cu2+已增加到相當(dāng)大的濃度,這時(shí)Fe3+和Cu2+對(duì)Cu的蝕刻量幾乎相等;當(dāng)Fe3+消耗掉50%時(shí)。 上海和輝光電用的哪家的BOE蝕刻液?上海應(yīng)用BOE蝕刻液私人定做

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