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    本發(fā)明涉及一種提高氮化硅蝕刻均勻性的酸性蝕刻液，通過在磷酸中添加醇醚類和表面活性劑，來改善磷酸的浸潤性和表面張力，使之均勻蝕刻氮化硅。背景技術(shù)：氮化硅是一種具有很高的化學穩(wěn)定性的絕緣材料，氫氟酸和熱磷酸能對氮化硅進行緩慢地腐蝕。在半導體制造工藝中，一般是采用熱磷酸對氮化硅進行蝕刻，一直到了90nm的制程也是采用熱磷酸來蝕刻氮化硅。但隨著半導體制程的飛速發(fā)展，器件的特征尺寸越來越小，集成度越來越高，對制造工藝中的各工藝節(jié)點要求也越來越高，如蝕刻工藝中對蝕刻后晶圓表面的均勻性、蝕刻殘留、下層薄膜的選擇性等都有要求。在使用熱磷酸對氮化硅進行蝕刻時，晶圓表面會出現(xiàn)不均勻的現(xiàn)象，體現(xiàn)于在蝕刻前后進行相同位置取點的厚度測量時，檢測點之間蝕刻前后的厚度差值存在明顯差異。為了解決氮化硅蝕刻不均勻的問題，通過在磷酸中添加醇醚類和表面活性劑可以實現(xiàn)氮化硅層的均勻蝕刻。技術(shù)實現(xiàn)要素：本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供一種能均勻蝕刻氮化硅層的蝕刻液。本發(fā)明涉及一種提高氮化硅蝕刻均勻性的酸性蝕刻液，所述蝕刻液的組成包括：占蝕刻液總重量≥88％的磷酸、％的醇醚類、％的表面活性劑。進一步地，本發(fā)明涉及上述蝕刻液。什么是BOE蝕刻液商家您的選擇是對我的肯定，蘇州博洋化學股份有限公司歡迎您。

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BOE蝕刻液多少錢一噸？江西BOE蝕刻液生產(chǎn)

    除去75重量％的油。在45°C下的簡單加熱、或者在環(huán)境溫度(20°C)下的簡單攪拌或超聲應(yīng)用可以除去所有的沉積油。此外，沒有觀察到油的溶解，而是觀察到上升到液體表面的油的脫離(卷起機理(rollingupmechanism)).與快速導致溶劑飽和的溶解機理相比，該卷起機理更為有利。油溶解試驗的總體過程將硅油(得自CromptonCorporation(Greenwich,USA)的CromptonL9000—1000)引入到100ml待評價組合物中，并測定在環(huán)境溫度下立即溶解的硅油的量(其以所溶解的油相對于該混合物的百分數(shù)表示)。實施例5在使用％的九氟丁基乙基醚和％的甲基四氫呋喃的共沸組合物的情況下，溶解超過17重量％的油。實施例6在使用九氟丁基乙基醚的情況下，多溶解2重量％的油并且觀察到反混合(demixing)。權(quán)利要求組合物，其包含甲基四氫呋喃和至少一種式C4F9OR的九氟丁基烷基醚，在式C4F9OR中，R具有1～4個碳原子的線型或支化的飽和烷基鏈。2.權(quán)利要求1的組合物，特征在于，所述組合物包含540重量％的甲基四氫呋喃和6095重量％的式C4F90R的九氟丁基烷基醚。3.權(quán)利要求1或2的組合物，特征在于，所述式C4F90R的九氟丁基烷基醚是九氟丁基甲基醚和九氟丁基乙基醚。4.權(quán)利要求13中任一項的組合物，特征在于。江西BOE蝕刻液生產(chǎn)