UV-NIL / SmartNIL 納米壓印系統(tǒng)
EV Group為基于紫外線的納米壓印光刻（UV-NIL）提供完整的產(chǎn)品線，包括不同的單步壓印系統(tǒng)，大面積壓印機以及用于高 效母版制作的分步重復系統(tǒng)。除了柔軟的UV-NIL，EVG還提供其專有的SmartNIL技術(shù)以及多種用途的聚合物印模技術(shù)。高 效，強大的SmartNIL工藝可提供高圖案保真度，高度均勻的圖案層和**少的殘留層，并具有易于調(diào)整的晶圓尺寸和產(chǎn)量。EVG的SmartNIL兌現(xiàn)了納米壓印的長期承諾，即納米壓印是一種用于大規(guī)模生產(chǎn)微米和納米級結(jié)構(gòu)的高性能，低成本和具有批量生產(chǎn)能力的技術(shù)。
這個系列的型號包括：EVG®610；EVG®620NT；EVG®6200NT；EVG®720；EVG®7200；EVG®7200LA；HERCULES®NIL；EVG®770；IQAligner®。 EVG提供不同的***積壓印系統(tǒng)，大面積壓印機，微透鏡成型設(shè)備以及用于高 效母版制作的分步重復系統(tǒng)。天津納米壓印技術(shù)支持
EVG ® 6200 NT特征：
頂部和底部對準能力
高精度對準臺
自動楔形補償序列
電動和程序控制的曝光間隙
支持***的UV-LED技術(shù)
**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求
分步流程指導
遠程技術(shù)支持
多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權(quán)限，不同的用戶界面語言）
敏捷處理和轉(zhuǎn)換工具
臺式或帶防震花崗巖臺的單機版
EVG ® 6200 NT附加功能：
鍵對準
紅外對準
智能NIL ®
μ接觸印刷技術(shù)數(shù)據(jù)
晶圓直徑（基板尺寸）
標準光刻：75至200 mm
柔軟的UV-NIL：75至200毫米
SmartNIL ®：**多至150mm
解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）
支持流程：軟UV-NIL＆SmartNIL
®
曝光源：汞光源或紫外線LED光源
對準：軟NIL：≤±0.5 μm；SmartNIL ®：≤±3微米
自動分離：柔紫外線NIL：不支持；SmartNIL
®：支持
工作印章制作：柔軟的UV-NIL：外部；SmartNIL ®：支持
本地納米壓印免稅價格EV Group 提供完整的UV 紫外光納米壓印光刻（UV-NIL）產(chǎn)品線。
EVG ® 770特征：
微透鏡用于晶片級光學器件的高 效率制造主下降到納米結(jié)構(gòu)為SmartNIL ®
簡單實施不同種類的大師
可變抗蝕劑分配模式
分配，壓印和脫模過程中的實時圖像
用于壓印和脫模的原位力控制
可選的光學楔形誤差補償
可選的自動盒帶間處理
EVG ® 770技術(shù)數(shù)據(jù)：
晶圓直徑（基板尺寸）：100至300毫米
解析度：≤50 nm（分辨率取決于模板和工藝）
支持流程：柔軟的UV-NIL
曝光源：大功率LED（i線）> 100 mW /cm2
對準：頂側(cè)顯微鏡，用于實時重疊校準≤±500 nm和精細校準≤±300 nm
較早印刷模具到模具的放置精度：≤1微米
有效印記區(qū)域：長達50 x 50毫米
自動分離：支持的
前處理：涂層：液滴分配（可選）
EVG ® 6200 NT是SmartNIL
UV納米壓印光刻系統(tǒng)。
用UV納米壓印能力設(shè)有EVG's專有SmartNIL通用掩模對準系統(tǒng)®技術(shù)范圍達150m。這些系統(tǒng)以其自動化的靈活性和可靠性而著稱，以**小的占地面積提供了**
新的掩模對準技術(shù)。操作員友好型軟件，**短的掩模和工具更換時間以及高 效的全球服務(wù)和支持使它們成為任何研發(fā)環(huán)境（半自動批量生產(chǎn)）的理想解決方案。該工具支持多種標準光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，并且可以選擇背面對準。此外，該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對準和納米壓印光刻。此外，半自動和全自動系統(tǒng)配置均支持EVG專有的SmartNIL技術(shù)。
EVG ? 7200是自動SmartNIL ? UV納米壓印光刻系統(tǒng)。
SmartNIL是行業(yè)**的NIL技術(shù)，可對小于40 nm *的極小特征進行圖案化，并可以對各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀進行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術(shù)相結(jié)合，可實現(xiàn)****的吞吐量，并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢，同時保留了可擴展性和易于維護的操作。EVG的SmartNIL兌現(xiàn)了納米壓印的長期前景，即納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級和納米級結(jié)構(gòu)的低成本，大批量替代光刻技術(shù)。
注：*分辨率取決于過程和模板
如果需要詳細的信息，請聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。 EVG620 NT支持多種標準光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，以及背面對準選項。半導體設(shè)備納米壓印一級代理
EVG ? 7200 LA是大面積SmartNIL ? UV紫外光納米壓印光刻系統(tǒng)。天津納米壓印技術(shù)支持
它為晶圓級光學元件開發(fā)、原型設(shè)計和制造提供了一種獨特的方法，可以方便地接觸***研發(fā)技術(shù)與材料。晶圓級納米壓印光刻和透鏡注塑成型技術(shù)確保在如3D感應(yīng)的應(yīng)用中使用小尺寸的高 分辨率光學傳感器供應(yīng)鏈合作推動晶圓級光學元件應(yīng)用要在下一代光學傳感器的大眾化市場中推廣晶圓級生產(chǎn)，先進的粘合劑與抗蝕材料發(fā)揮著不可取代的作用。開發(fā)先進的光學材料，需要充分地研究化學、機械與光學特性，以及已被證實的大規(guī)模生產(chǎn)（HVM）的可擴展性。擁有在NIL圖形壓印和抗蝕工藝方面的材料兼容性，以及自動化模制和脫模的專業(yè)知識，才能在已驗證的大規(guī)模生產(chǎn)中，以**小的形狀因子達到晶圓級光學元件的比較好性能。材料供應(yīng)商與加工設(shè)備制造商之間的密切合作，促成了工藝流程的研發(fā)與改善，確保晶圓級光學元件的高質(zhì)量和制造的可靠性。EVG和DELO的合作將支持雙方改善工藝流程與產(chǎn)品，并增強雙方的專業(yè)技能，從而適應(yīng)當前與未來市場的要求。雙方的合作提供了成熟的材料與專業(yè)的工藝技術(shù)，并將加快新產(chǎn)品設(shè)計與原型制造的速度，為雙方的客戶保駕護航?！癗ILPhotonics解決方案支援中心的獨特之處是：它解決了行業(yè)內(nèi)部需要用更短時間研發(fā)產(chǎn)品的需求，同時保障比較高的保密性。天津納米壓印技術(shù)支持
岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司位于中國(上海)自由貿(mào)易試驗區(qū)加太路39號第五層六十五部位。公司業(yè)務(wù)涵蓋磁記錄，半導體，光通訊生產(chǎn)，測試儀器的批發(fā)等，價格合理，品質(zhì)有保證。公司注重以質(zhì)量為中心，以服務(wù)為理念，秉持誠信為本的理念，打造儀器儀表良好品牌。在社會各界的鼎力支持下，持續(xù)創(chuàng)新，不斷鑄造***服務(wù)體驗，為客戶成功提供堅實有力的支持。