微泰半導(dǎo)體閘閥具有諸多特點(diǎn)：首先，它已向中國(guó)臺(tái)灣的 Micron、UMC、AKT 等，新加坡的 Micron、Global Foundries，馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體，日本的 Micron、三星半導(dǎo)體等眾多設(shè)備廠批量供貨，且品質(zhì)得到認(rèn)可，同時(shí)完成了對(duì)半導(dǎo)體 Utility 設(shè)備和批量生產(chǎn)設(shè)備的驗(yàn)證。其次，該閘閥采用陶瓷球機(jī)構(gòu)，具有良好的抗沖擊和震動(dòng)性能，保證可使用 25 萬次，且檢修方便，維護(hù)成本較低。它無 Particle 產(chǎn)生，采用陶瓷球不會(huì)有腐蝕和顆粒產(chǎn)生。此外，它還具有屏蔽保護(hù)功能，閘閥閥體與擋板之間的距離小于 1mm，能有效防止粉末侵入閥內(nèi)，壽命為半永久性。其保護(hù)環(huán)設(shè)計(jì)也很獨(dú)特，Protecrion Ring 通過流速上升設(shè)計(jì)防止粉末凝固，并通過打磨（研磨）工藝防止粉末堆積。微泰半導(dǎo)體閘閥被廣泛應(yīng)用于 Evaporation（蒸發(fā)）、Sputtering（濺射）、Diamond growth by MW-PACVD（通過 MW-PACVD 生長(zhǎng)金剛石）、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對(duì)卷）、Coating（涂層）、Etch（蝕刻）、Diffusion（擴(kuò)散）、CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上，可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥。該閘閥由上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰咎峁ｉl閥形體簡(jiǎn)單，結(jié)構(gòu)長(zhǎng)度短，制造工藝性好，適用范圍廣。多位閘閥AKT

微泰主要產(chǎn)品有1、-手動(dòng)鎖定閥：操作鎖定按鈕關(guān)閉正在抽吸中的切斷閥門切斷現(xiàn)象的源頭：2、特殊閥門：全金屬配件構(gòu)成，由電磁閥+傳感器+D-Sub+角閥組成；3、三位閥：半開功能的壓力控制閥。氣動(dòng)閘閥：?產(chǎn)品范圍：1.5~30英寸?高壓/超高壓都可用?維護(hù)前可用次數(shù)：25萬次?響應(yīng)時(shí)間：0.2秒~3秒；手動(dòng)（鎖定）閘閥?產(chǎn)品范圍：1.5~12英寸?高壓/超高壓都可用?維護(hù)前可用次數(shù)：25萬次；專門用閘閥：產(chǎn)品范圍：1.5~12英寸?高壓/超高壓都可用?維護(hù)前可用次數(shù)：25萬次，響應(yīng)時(shí)間：0.2秒客戶指定的法蘭，可安裝角閥；三位閘閥：產(chǎn)品范圍：2.5~12英寸?高壓/超高壓都可用?維護(hù)前可用次數(shù)：20萬次?響應(yīng)時(shí)間：0.2秒~3秒；有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī)，可替代HVA閘閥、VAT閘閥。上海安宇泰環(huán)保科技有限公司。手動(dòng)閘閥角控制閥閘閥高度大，啟閉時(shí)間長(zhǎng)。閘板的啟閉行程較大，升降是通過螺桿進(jìn)行的。

微泰，多位閘閥，多位置閘閥，多定位閘閥應(yīng)用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長(zhǎng)金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對(duì)卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴(kuò)散）?CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上。可替代VAT閘閥。微泰多位閘閥，多位置閘閥，多定位閘閥其特點(diǎn)是?操作模式：本地和遠(yuǎn)程?緊急情況：自動(dòng)關(guān)閉?慢速泵送功能。多位閘閥，多位置閘閥，多定位閘閥規(guī)格如下：材料：閥體 STS304， 機(jī)制 STS304、法蘭尺寸(內(nèi)徑) 4英寸~10英寸、閘門密封 FKM(VITON)、開/關(guān)振動(dòng) 無振動(dòng)、He泄漏率1X10-9 mbar.l/sec、閘門壓差 ≤1.4 bar、分子流動(dòng)電導(dǎo)（ISO100）1891 l/s、閥座 1X10-10 mbar?L/秒、泄漏率閥體 1X10-10 mbar?L/Sec、壓力范圍 1X10-10mbar 至 1.4 bar、閘門上任一方向的壓差≤1.4 bar、安裝位置：任意。有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī)，上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰尽?

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥，晶圓輸送閥Transfer Valve，傳輸閥、轉(zhuǎn)換閥、輸送閥、轉(zhuǎn)移閥是安裝在半導(dǎo)體PVDCVD設(shè)備工藝模塊和工藝室之間的閥門系統(tǒng)。采用L型輸送閥L-motion防止產(chǎn)生微粒（Particle)，無需從設(shè)備上拆卸閥門，即可更換閘門和O形圈。大量采用缸套運(yùn)動(dòng)導(dǎo)軌Liner (motion guide)，實(shí)現(xiàn)高精度、高耐用性.微泰晶圓輸送閥L型輸送閥L-motion,Transfer Valve，傳輸閥、轉(zhuǎn)換閥、輸送閥、轉(zhuǎn)移閥Butterfly Valve有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī)。閘板有剛性閘板和彈性閘板，根據(jù)閘板的不同，閘閥分為剛性閘閥和彈性閘閥。

微泰半導(dǎo)體閘閥與其他類型閘閥相比，具有以下一些優(yōu)勢(shì)：1. 高精度控制：能更精確地調(diào)節(jié)流體流量。2. 適應(yīng)半導(dǎo)體環(huán)境：對(duì)溫度、真空等條件有更好的適應(yīng)性。3. 低顆粒產(chǎn)生：減少對(duì)晶圓等的污染。4. 長(zhǎng)壽命和可靠性：確保穩(wěn)定運(yùn)行，減少維護(hù)成本。5. 多功能應(yīng)用：可適用于多種半導(dǎo)體工藝設(shè)備。微泰半導(dǎo)體閘閥被廣泛應(yīng)用于 Evaporation（蒸發(fā)）、Sputtering（濺射）、Diamond growth by MW-PACVD（通過 MW-PACVD 生長(zhǎng)金剛石）、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對(duì)卷）、Coating（涂層）、Etch（蝕刻）、Diffusion（擴(kuò)散）、CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上，可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥。該閘閥由上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰咎峁?。真空閘閥廣泛應(yīng)用于各種真空系統(tǒng)和工藝過程中，如半導(dǎo)體生產(chǎn)、電子設(shè)備制造、科研實(shí)驗(yàn)、航空航天等領(lǐng)域。轉(zhuǎn)移閘閥英菲尼亞半導(dǎo)體

控制系統(tǒng)閘閥。控制系統(tǒng)閘閥具有可隔離的閘閥，以滑動(dòng)方式操作，可以在高真空環(huán)境中實(shí)現(xiàn)精確的壓力控制。多位閘閥AKT

微泰半導(dǎo)體閘閥的特點(diǎn)：已向中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備，設(shè)備廠批量供貨，已得到品質(zhì)認(rèn)可，已完成對(duì)半導(dǎo)體Utility設(shè)備和批量生產(chǎn)設(shè)備的驗(yàn)證。1，采用陶瓷球機(jī)構(gòu)，抗沖擊和震動(dòng)，保證使用25萬次，檢修方便，較低維護(hù)成本。2，無Particle（顆粒）產(chǎn)生，采用陶瓷球無腐蝕和顆粒產(chǎn)。3，屏蔽保護(hù)：屏蔽式保護(hù)功能，閘閥閥體與擋板之間的距離小于1mm，可防止粉末侵入閥內(nèi)，壽命為半永久性。4，保護(hù)環(huán)：Protecrion Ring通過流速上升設(shè)計(jì)防止粉末凝固，并通過打磨（研磨）工藝防止粉末堆積。微泰半導(dǎo)體閘閥應(yīng)用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長(zhǎng)金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對(duì)卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴(kuò)散）?CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上?？商娲鶫VA閘閥、VAT閘閥。上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰尽６辔婚l閥AKT