納米多層薄膜物相隨深度變化引言掠入射X射線(xiàn)衍射（GID）是表征薄膜材料的有效手段。通過(guò)控制不同的入射角度，進(jìn)而控制X射線(xiàn)在薄膜中的穿透深度，可以確定薄膜材料的結(jié)構(gòu)隨深度變化的信息。實(shí)例45nmNiO/355nmSnO2/玻璃薄膜的GID測(cè)試由于具有出色的適應(yīng)能力，使用D8ADVANCE，您就可對(duì)所有類(lèi)型的樣品進(jìn)行測(cè)量：從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物。無(wú)論是新手用戶(hù)還是專(zhuān)業(yè)用戶(hù)，都可簡(jiǎn)單快捷、不出錯(cuò)地對(duì)配置進(jìn)行更改。這都是通過(guò)布魯克獨(dú)特的DAVINCI設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)的：配置儀器時(shí)，免工具、免準(zhǔn)直，同時(shí)還受到自動(dòng)化的實(shí)時(shí)組件識(shí)別與驗(yàn)證的支持。不只如此——布魯克提供基于NIST標(biāo)樣剛玉（SRM1976）的準(zhǔn)直保證。目前，在峰位、強(qiáng)度和分辨率方面，市面上尚無(wú)其他粉末衍射儀的精度超過(guò)D8ADVANCE。總散射分析：Bragg衍射、對(duì)分布函數(shù)（PDF）、小角X射線(xiàn)散射（SAXS）。廣東進(jìn)口XRD衍射儀哪里好

D8DISCOVER特點(diǎn)：微焦源IμS配備了MONTEL光學(xué)器件的IμS微焦源可提供小X射線(xiàn)束，非常適合小范圍或小樣品的研究。1.毫米大小的光束：高亮度和很低背景2.綠色環(huán)保設(shè)計(jì)：低功耗、無(wú)耗水、使用壽命延長(zhǎng)3.MONTEL光學(xué)器件可優(yōu)化光束形狀和發(fā)散度4.與布魯克大量組件、光學(xué)器件和探測(cè)器完全兼容。5.提供各種技術(shù)前列的全集成X射線(xiàn)源，用于產(chǎn)生X射線(xiàn)。6.工業(yè)級(jí)金屬陶瓷密封管，可實(shí)現(xiàn)線(xiàn)焦斑或點(diǎn)焦斑。7.專(zhuān)業(yè)的TWIST-TUBE（旋轉(zhuǎn)光管）技術(shù)，可快速簡(jiǎn)便地切換線(xiàn)焦斑和點(diǎn)焦斑。8.微焦斑X射線(xiàn)源（IμS）可提高極小焦斑面積上的X射線(xiàn)通量，而功耗卻很低。9.TURBOX射線(xiàn)源（TXS）旋轉(zhuǎn)陽(yáng)極可為線(xiàn)焦斑、點(diǎn)焦斑和微焦斑等應(yīng)用提供比較高X射線(xiàn)通量。10.性液態(tài)金屬靶METALJET技術(shù)，可提供無(wú)出其右的X射線(xiàn)光源亮度。11.高效TurboX射線(xiàn)源（TXS-HE）可為點(diǎn)焦斑和線(xiàn)焦斑應(yīng)用提供比較高X射線(xiàn)通量，適用于D8DISCOVERPlus。12.這些X射線(xiàn)源結(jié)合指定使用X射線(xiàn)光學(xué)元件，可高效捕獲X射線(xiàn)，并將之轉(zhuǎn)化為針對(duì)您的應(yīng)用而優(yōu)化的X射線(xiàn)束。廣州購(gòu)買(mǎi)XRD衍射儀檢測(cè)在DIFFRAC.WIZARD中配置溫度曲線(xiàn)并將其與測(cè)量同不，然后可以在DIFFRAC.EVA中顯示結(jié)果。

D8DISCOVER應(yīng)用范圍材料研究殘余應(yīng)力分析、織構(gòu)和極圖、微區(qū)X射線(xiàn)衍射、廣角X射線(xiàn)散射（WAXS）XRD可研究材料的結(jié)構(gòu)和物理特性，是重要的材料研究工具之一。D8DISCOVER就是布魯克推出的、用于材料研究的旗艦款XRD儀器。D8DISCOVER配備了技術(shù)超過(guò)的組件，可為您帶來(lái)較好的性能和充分的靈活性，同時(shí)讓研究人員對(duì)材料進(jìn)行細(xì)致入微的表征：定性相分析和結(jié)構(gòu)測(cè)定微米應(yīng)變和微晶尺寸分析應(yīng)力和織構(gòu)分析粒度和粒度分布測(cè)定使用微米大小的X射線(xiàn)束進(jìn)行局部XRD分析倒易空間掃描

制劑中微量API的晶型檢測(cè)引言藥物制劑生產(chǎn)過(guò)程中除需添加各種輔料外，往往還需要經(jīng)過(guò)溶解、研磨、干燥(溫度)、壓片等工藝過(guò)程，在此過(guò)程中API的晶型有可能發(fā)生改變，進(jìn)而可能影響到藥物的療效。國(guó)內(nèi)外FDA規(guī)定多晶型藥物在研制、生產(chǎn)、貯存過(guò)程中必須保證其晶型的一致性，固體制劑中使用的晶型物質(zhì)應(yīng)該與API晶型一致。因此藥物制劑中的晶型分析是非常重要的。由于輔料的存在對(duì)藥物制劑中API的晶型分析增加了干擾，特別是API含量非常少的制劑樣品，檢測(cè)更加困難。XRPD是API晶型分析的有效手段之一，配合高性能的先進(jìn)檢測(cè)器，為制劑中微量API的晶型檢測(cè)提供了有利工具。D8 DISCOVER系列是市面上準(zhǔn)確、功能強(qiáng)大和靈活的X射線(xiàn)衍射解決方案。

那么,碳晶體的晶胞參數(shù)可直接用來(lái)表征其石墨化度。XRD法利用石墨的晶格常數(shù)計(jì)算石墨化度G[1]：式中：0.3440為完全非石墨化炭的(002)晶面間距，nm；0.3354為理想石墨晶體的(002)晶面間距，nm。為實(shí)際石墨試樣（002）晶面間距，nm。實(shí)例不同石墨的石墨化度為了準(zhǔn)確的確定值或(002)峰的峰位，需要在樣品中加入內(nèi)標(biāo)以校準(zhǔn)。本文根據(jù)QJ2507-93[2]規(guī)范，用硅作為內(nèi)標(biāo)物，加入待測(cè)石墨樣品中，在瑪瑙研缽中混合研磨均勻。石墨及其復(fù)合材料具有高溫下不熔融、導(dǎo)電導(dǎo)熱性能好以及化學(xué)穩(wěn)定性?xún)?yōu)異等特點(diǎn)，應(yīng)用于冶金、化工、航空航天等行業(yè)。特別是近年來(lái)鋰電池的快速發(fā)展，進(jìn)一步加大了石墨材料的需求。工業(yè)上常將碳原料經(jīng)過(guò)煅燒破碎、焙燒、高溫石墨化處理來(lái)獲取高性能人造石墨材料。石墨的質(zhì)量對(duì)電池的性能有很大影響，石墨化度是一種從結(jié)構(gòu)上表征石墨質(zhì)量的方法之一。D8 DISCOVER 特點(diǎn)：UMC樣品臺(tái)可對(duì)重達(dá)5 kg的樣品進(jìn)行掃描、大區(qū)域映射300mm的樣品、高通量篩選支持三個(gè)孔板。布魯克XRD衍射儀要多少錢(qián)

在DIFFRAC.LEPTOS中，對(duì)多層樣品進(jìn)行XRR分析，測(cè)定其薄膜厚度、晶格失配和混合晶體濃度。廣東進(jìn)口XRD衍射儀哪里好

薄膜和涂層分析采用的原理與XRPD相同，不過(guò)進(jìn)一步提供了光束調(diào)節(jié)和角度控制功能。典型示例包括但不限于相鑒定、晶體質(zhì)量、殘余應(yīng)力、織構(gòu)分析、厚度測(cè)定以及組分與應(yīng)變分析。在對(duì)薄膜和涂層進(jìn)行分析時(shí)，著重對(duì)厚度在nm和μm之間的層狀材料進(jìn)行特性分析（從非晶和多晶涂層到外延生長(zhǎng)薄膜）。D8ADVANCE和DIFFRAC.SUITE軟件可進(jìn)行以下高質(zhì)量的薄膜分析：掠入射衍射X射線(xiàn)反射法高分辨率X射線(xiàn)衍射倒易空間掃描由于具有出色的適應(yīng)能力，使用D8ADVANCE，您就可對(duì)所有類(lèi)型的樣品進(jìn)行測(cè)量：從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物。廣東進(jìn)口XRD衍射儀哪里好