然后將裝有蝕刻液的石英燒瓶放入加熱套中加熱，待加熱到確定溫度后，放入氮化硅樣片進行蝕刻；蝕刻完后，取出樣片采用熱超純水清洗和氮氣吹干后，使用橢圓偏振光譜儀對蝕刻前所取位置的6個點的厚度進行測量，計算蝕刻前后6個取點的厚度差值，對比6個點之間的厚度差值的差異。與現有的使用磷酸作為蝕刻液相比，本發(fā)明的有益效果是：醇醚類和表面活性劑的添加能明顯改善磷酸溶液的浸潤性和降低磷酸溶液的表面張力，有效提高了蝕刻液對氮化硅層的潤濕性和蝕刻均勻性。具體實施方式下面結合具體實施例，進一步闡述本發(fā)明，對本發(fā)明做進一步詳細的說明，但不限于這些實施例。本發(fā)明的蝕刻液配制時選擇的磷酸濃度為85％，蝕刻溫度為160℃，蝕刻時間為10min。先對所配制蝕刻液的表面張力進行檢測，然后將氮化硅樣片使用超純水清洗和氮氣吹干后，進行接觸角的測量；蝕刻前使用超純水清洗和氮氣吹干氮化硅樣片后，在氮化硅樣片上取6個不同位置的點對其厚度進行測量；蝕刻完成后使用熱超純水清洗和氮氣吹干氮化硅樣片后，取與蝕刻前相同位置的6個點進行厚度測量。實施例1本發(fā)明的實施例按蝕刻液總質量為400g進行配制，先稱取濃度為85％的磷酸，然后稱取添加劑加入磷酸中。BOE蝕刻液的的性價比、質量哪家比較好？河南什么是BOE蝕刻液供應商

緩沖氧化物蝕刻液（BOE）又稱為緩沖氧化物蝕刻劑，是由氫氟酸（49%）與水或氟化銨與水混合而成。作為一種濕式蝕刻劑，緩沖氧化物蝕刻液具有速率快、蝕刻容易控制、溶解能力高等特點。緩沖氧化物蝕刻液主要用于蝕刻二氧化硅（SiO2）或氮化硅（Si3N4）的薄膜，下游應用涉及到光伏太陽能、半導體、平板顯示等多個領域。

年來，得益于新能源、電子等產業(yè)的快速發(fā)展，全球緩沖氧化物蝕刻液市場規(guī)模不斷擴大，發(fā)展到2020年，全球緩沖氧化物蝕刻液市場規(guī)模已達到4.2億元。目前緩沖氧化物蝕刻液下游市場處于發(fā)展階段，對緩沖氧化物蝕刻液的需求仍保持增長態(tài)勢，因此未來緩沖氧化物蝕刻液行業(yè)發(fā)展前景較好。 河南什么是BOE蝕刻液供應商BOE蝕刻液的發(fā)展趨勢如何。

Buffered Oxide Etch，BOE就是buffer oxide etch， B.O.E 緩沖蝕刻液 BOE是HF與NH4F依不同比例混合而成。6:1 BOE蝕刻即表示49%HF水溶液：40%NH4F水溶液=1：6（體積比）的成分混合而成。刻蝕速度約10nm每秒。HF為主要的蝕刻液，NH4F則作為緩沖劑使用。利用NH4F固定〔H+〕的濃度，使之保持一定的蝕刻率。HF會浸蝕玻璃及任何含硅石的物質，對皮膚有強烈的腐蝕性，不小心被濺到，應用大量水沖洗。

BOE（Buffered Oxide Etch），緩沖氧化物刻蝕液。由氫氟酸（49%）與水或氟化銨與水混合而成。

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    所述的磷酸濃度為82-87％。進一步地，本發(fā)明涉及上述蝕刻液，醇醚類的含量為％。進一步地，本發(fā)明涉及上述蝕刻液，表面活性劑的含量為％。進一步地，本發(fā)明涉及上述蝕刻液，所述的醇醚類為選自二乙二醇單甲醚、丙二醇丁醚、二丙二醇甲醚、二乙二醇丁醚、三乙二醇乙醚、三丙二醇單甲醚、三甘醇單丁醚等中的至少一種；表面活性劑為選自脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸酯moa-7p、壬基酚聚氧乙烯醚np-10、聚乙二醇硬脂酸酯egms、烷基酚聚氧乙烯醚硫酸鈉、月桂酰氨乙基硫酸鈉、醇醚羧酸鹽等中的至少一種。進一步地，在使用本發(fā)明的蝕刻液進行氮化硅層蝕刻時，蝕刻溫度為152-165℃，蝕刻時間為5-60min。通過在磷酸中添加醇醚類和表面活性劑，改善了磷酸的浸潤性和表面張力，明顯提高了蝕刻液對氮化硅層的潤濕和蝕刻均勻性。為了便于驗證氮化硅薄膜層的蝕刻均勻性，本發(fā)明使用淀積了氮化硅薄膜的晶圓樣片(初始厚度約為)。蝕刻液配制完成后，先使用表面張力儀檢測該蝕刻液的表面張力；然后將氮化硅晶圓片切割成1cm*3cm的小樣片，采用超純水清洗和氮氣吹干后，使用接觸角測量儀檢測蝕刻液對氮化硅層的接觸角大小。在蝕刻前，使用橢圓偏振光譜儀對氮化硅樣片取不同位置共6個點進行厚度的測量。河南什么是BOE蝕刻液供應商