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吉林德國PSP-POLOS光刻機讓你隨意進行納米圖案化

來源: 發(fā)布時間:2025-05-24

某能源研究團隊采用 Polos 光刻機制造了壓電式微型能量收集器。其激光直寫技術在 PZT 薄膜上刻制出 50μm 的叉指電極,器件的能量轉換效率達 35%,在 10Hz 振動下可輸出 50μW/cm2 的功率。通過自定義電極間距和厚度,該收集器可適配不同頻率的環(huán)境振動,在智能穿戴設備中實現(xiàn)了運動能量的實時采集與存儲。其輕量化設計(體積 < 1mm3)還被用于物聯(lián)網(wǎng)傳感器節(jié)點,使傳感器續(xù)航時間從 3 個月延長至 2 年。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。柔性電子:曲面 OLED 驅動電路漏電降 70%,彎曲半徑達 1mm,適配可穿戴設備。吉林德國PSP-POLOS光刻機讓你隨意進行納米圖案化

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一所高校的電子工程實驗室專注于新型傳感器的研究。在開發(fā)一款超靈敏壓力傳感器時,面臨著如何在微小尺寸上構建高精度電路圖案的難題。德國 Polos 光刻機的引入解決了這一困境。其可輕松輸入任意圖案進行曝光的特性,讓研究人員能夠根據(jù)傳感器的特殊需求,設計并制作出獨特的電路結構。通過 Polos 光刻機precise的光刻,成功制造出的壓力傳感器,靈敏度比現(xiàn)有市場產(chǎn)品提高了兩倍以上。該成果已獲得多項patent,并吸引了多家科技企業(yè)的關注,有望實現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化應用,為可穿戴設備、智能機器人等領域帶來新的發(fā)展機遇。吉林德國PSP-POLOS光刻機讓你隨意進行納米圖案化德國技術基因:融合精密光學與自動化控制,確保設備高穩(wěn)定性與長壽命。

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SPS POLOS μ以緊湊的桌面設計降低實驗室設備投入,光束引擎通過壓電驅動實現(xiàn)高速掃描(單次寫入400 μm區(qū)域)。支持AZ5214E等光刻膠的高效曝光,成功制備3 μm間距微圖案陣列和叉指電容器,助力納米材料與柔性電子器件的快速驗證。其無掩模特性進一步減少材料浪費,為中小型實驗室提供經(jīng)濟解決方案62。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。

石墨烯、二硫化鉬等二維材料的器件制備依賴高精度圖案轉移,Polos 光刻機的激光直寫技術避免了傳統(tǒng)濕法轉移的污染問題。某納米電子實驗室在 SiO?基底上直接曝光出 10nm 間隔的電極陣列,成功制備出石墨烯場效應晶體管,其電子遷移率達 2×10? cm2/(V?s),接近理論極限。該技術支持快速構建多種二維材料異質結,使器件研發(fā)效率提升 5 倍,相關成果推動二維材料在柔性電子、量子計算領域的應用研究進入快車道。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。跨學科應用:覆蓋微機械、光子晶體、仿生傳感器與納米材料合成領域。

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微流體芯片制造的core工具!Polos光刻機可加工80 μm直徑的開環(huán)諧振器和2 μm叉指電極,適用于傳感器與執(zhí)行器開發(fā)。結合雙光子聚合技術(如Nanoscribe的2PP工藝),用戶可擴展至3D微納結構打印,為微型機器人及光學超材料提供多維度解決方案37。其與Lab14集團的協(xié)同合作,進一步推動工業(yè)級光學封裝技術創(chuàng)新3。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。高頻元件驗證:成功開發(fā)射頻器件與IDC電容器,加速國產(chǎn)芯片產(chǎn)業(yè)鏈突破。浙江光刻機MAX層厚可達到10微米

無掩模技術優(yōu)勢:摒棄傳統(tǒng)掩模,圖案實時調整,研發(fā)成本降低 70%,小批量生產(chǎn)經(jīng)濟性突出。吉林德國PSP-POLOS光刻機讓你隨意進行納米圖案化

德國 Polos 光刻機系列的一大突出優(yōu)勢,便是能夠輕松輸入任意圖案進行曝光。在科研工作中,創(chuàng)新的設計理念往往需要快速驗證,而 Polos 光刻機正滿足了這一需求??蒲腥藛T無需花費大量時間和成本制作掩模,只需將設計圖案導入系統(tǒng),就能迅速開始光刻作業(yè)。? 在生物醫(yī)學工程領域,研究人員利用這一特性,快速制作出具有特殊結構的生物芯片,用于疾病診斷和藥物篩選。在材料科學研究中,可根據(jù)不同材料特性,定制獨特的圖案結構,探索材料的新性能。這種靈活的圖案輸入方式,remarkable縮短了科研周期,加速科研成果的產(chǎn)出,讓科研人員能夠將更多精力投入到創(chuàng)新研究中。吉林德國PSP-POLOS光刻機讓你隨意進行納米圖案化

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