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遼寧德國POLOS光刻機MAX基材尺寸4英寸到6英寸

來源: 發(fā)布時間:2025-05-24

德國Polos-BESM系列光刻機采用無掩模激光直寫技術,突破傳統(tǒng)光刻對物理掩膜的依賴,支持用戶通過軟件直接輸入任意圖案進行快速曝光。其亞微米分辨率(most小線寬0.8 μm)和405 nm紫外光源,可在5英寸晶圓上實現(xiàn)高精度微納結構加工18。系統(tǒng)體積緊湊,only占桌面空間,搭配閉環(huán)自動對焦(1秒完成)和半自動多層對準功能,大幅提升實驗室原型開發(fā)效率,適用于微流體芯片設計、電子元件制造等領域。無掩模光刻技術可以隨意進行納米級圖案化,無需使用速度慢且昂貴的光罩。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協(xié)的情況下,將該技術帶到了桌面上,進一步提升了其優(yōu)勢。無掩模技術優(yōu)勢:摒棄傳統(tǒng)掩模,圖案設計實時調(diào)整,研發(fā)成本直降 70%。遼寧德國POLOS光刻機MAX基材尺寸4英寸到6英寸

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某分析化學實驗室采用 Polos 光刻機開發(fā)了集成電化學傳感器的微流控芯片。其多材料同步曝光技術在 PDMS 通道底部直接制備出 10μm 寬的金電極,傳感器的檢測限達 1nM,較傳統(tǒng)電化學工作站提升 100 倍。通過軟件輸入不同圖案,可在 24 小時內(nèi)完成從葡萄糖檢測到重金屬離子分析的模塊切換。該芯片被用于即時檢測(POCT)設備,使現(xiàn)場水質(zhì)監(jiān)測時間從 2 小時縮短至 10 分鐘,相關設備已通過歐盟 CE 認證。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。北京德國PSP-POLOS光刻機分辨率1.5微米用戶案例broad:全球超500家科研機構采用,覆蓋高校、研究所與企業(yè)實驗室。

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某人工智能芯片公司利用 Polos 光刻機開發(fā)了基于阻變存儲器(RRAM)的存算一體架構。其激光直寫技術在 10nm 厚度的 HfO?介質(zhì)層上實現(xiàn)了 5nm 的電極邊緣控制,器件的電導均勻性提升至 95%,計算能效比達 10TOPS/W,較傳統(tǒng) GPU 提升兩個數(shù)量級?;谠摷夹g的邊緣 AI 芯片,在圖像識別任務中能耗降低 80%,推理速度提升 3 倍,已應用于智能攝像頭和無人機避障系統(tǒng),相關芯片出貨量突破百萬片。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。

Polos-BESM支持GDS文件直接導入和多層曝光疊加,簡化射頻器件(如IDC電容器)制造流程。研究團隊利用類似設備成功制備高頻電路元件,驗證了其在5G通信和物聯(lián)網(wǎng)硬件中的潛力。其高重復性(0.1 μm)確??蒲谐晒目赊D化性,助力國產(chǎn)芯片產(chǎn)業(yè)鏈突破技術封鎖56。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。微型傳感器量產(chǎn):80 μm開環(huán)諧振器加工能力,推動工業(yè)級MEMS傳感器升級。

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Polos-BESM XL Mk2專為6英寸晶圓設計,寫入?yún)^(qū)域達155×155 mm,平臺雙向重復性精度0.1 μm,滿足工業(yè)級需求。其搭載20x/0.75 NA尼康物鏡和120 FPS高清攝像頭,支持實時觀測與多層對準。配套的BEAM Xplorer軟件簡化了復雜圖案設計流程,內(nèi)置高性能筆記本電腦實現(xiàn)快速數(shù)據(jù)處理,成為微機電系統(tǒng)(MEMS)和光子晶體研究的理想工具。無掩模光刻技術可以隨意進行納米級圖案化,無需使用速度慢且昂貴的光罩。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協(xié)的情況下,將該技術帶到了桌面上,進一步提升了其優(yōu)勢。德國技術基因:融合精密光學與自動化控制,確保設備高穩(wěn)定性與長壽命。河北德國PSP-POLOS光刻機分辨率1.5微米

生物界面創(chuàng)新:微納結構可控加工,為組織工程提供新型仿生材料解決方案。遼寧德國POLOS光刻機MAX基材尺寸4英寸到6英寸

德國 Polos 光刻機系列以其緊湊的設計,在有限的空間內(nèi)發(fā)揮著巨大作用。對于研究實驗室,尤其是空間資源緊張的高校和初創(chuàng)科研機構來說,設備的空間占用是重要考量因素。Polos 光刻機占用空間小的特點,使其能夠輕松融入各類實驗室環(huán)境。? 盡管體積小巧,但它的性能卻毫不遜色。無掩模激光光刻技術保障了高精度的圖案制作,低成本的優(yōu)勢降低了科研投入門檻。在小型實驗室中,科研人員使用 Polos 光刻機,在微流體、電子學等領域開展研究,成功取得多項成果。從微納結構制造到新型器件研發(fā),Polos 光刻機證明了小空間也能蘊藏大能量,為科研創(chuàng)新提供有力支持。遼寧德國POLOS光刻機MAX基材尺寸4英寸到6英寸

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